گروهی از محققان آمریكایی و استرالیایی روشی عمومی برای الگودهی برگشت‌پذیر یا كاركردی نمودن سطوح پلیمری برای كاربردهایی كه نیاز به نانولیتوگرافی پاسخی دارند، توسعه داده‌اند.
به گزارش روز چهارشنبه باشگاه خبرنگاران دانشجویی ایران "ایسكانیوز" این دانشمندان نشان داده‌اند كه تحت شرایط مناسب، اگر نانوذرات میكروژل هسته-پوسته (CSMG) تا دمای مناسبی حرارت داده شوند، به روی سطح یك فیلم پلیمری نازك بالا می‌آیند. زمانی كه نانوذرات برای بار دوم حرارت داده می‌شوند، به صورت برگشت‌پذیر به زیر سطح بازمی‌گردند.
CSMG از یك هسته ساخته شده از یك پلیمر دارای پیوند عرضی تشكیل شده است كه دارای یك پوسته از جنس یك پلیمر دیگر است. این محققان برای كار خود از نانوذرات CSMG متشكل از پوسته پلی متیل متاكریلات (PMMA) استفاده نموده و رفتار آنها را در فیلم‌های نازك PMMA مذاب بررسی نمودند.
پخش نمودن نانوذرات در پلیمری كه از نظر شیمیایی با پوسته آنها یكسان بوده، اما وزن مولكولی آن بالاتر از وزن مولكولی پلیمر تشكیل‌دهنده پوسته است، منجر به یك خودگریزی می‌شود كه نانوذرات را مجبور می‌كند به سطح فیلم مهاجرت كنند. به علاوه برای اینكه نانوذرات واقعاً سطح فیلم را شكافته و بالا بیایند (همانند بالا آمدن یك زیردریایی روی سطح آب)، باید كشش سطحی بالای PMMA كاهش یابد كه این كار با استفاده از یك لایه روكش پلی‌استایرنی صورت می‌پذیرد.
به گزارش ایسكانیوز به نقل از نانو مطابق گفته پروفسور جان گنزر از دانشكده مهندسی شیمی و بیوشیمی دانشگاه كارولینای شمالی، كاربرد اصلی كار آنها، الگودهی سطوح می‌باشد. «آوردن انتخابی تعدادی از نانوذرات به سطح و سپس بازگرداندن دوباره آنها به عمق، منجر به الگودهی كنترل‌شده سطوح می‌شود؛ مار در كار خود ثابت كرده‌ایم كه این كار امكان‌پذیر است». گنزر می‌افزاید همكاران وی قصد دارند روشی برای تغییر آرام كشش سطحی فیلم نازك بیابند تا بتوانند كاركرد آن را بهبود بخشیده و امكان روشن و خاموش كردن فرایند افتراق را ایجاد نمایند. او بیان كرد كه تعدادی ایده جالب در ذهن داشته و به صورتی فعال در حال پیگیری این ایده‌ها در آزمایشگاه هستند.